Плазменная очистка поверхности - это процесс, в котором примеси и загрязнения с поверхности образца удаляются путем создания высокоэнергетической плазмы из газообразных частиц, он был разработан для различных применений, таких как очистка поверхности, стерилизация поверхности, активация поверхности, изменение поверхностной энергии и т. Д. подготовка поверхности к склеиванию и адгезии, модификация химического состава поверхности.